真空管式炉(又称管式真空炉)是一种周期作业式高温热处理设备,服务于实验室、科研单位进行材料热处理、元素分析和电子陶瓷等新材料的加热。
该设备可在真空或保护气氛条件下对样品进行热处理,采用优质炉膛材料和稳定的温度控制系统,确保实验数据的可靠性。真空管式炉既可以抽真空,也可以通入保护气体。
上海博纳热电炉有限公司的 BR-16MT 真空管式炉,电加热,采用多项先进的专有技术。真空管式炉的主要用途包括高温热处理、粉末冶金、陶瓷烧结、电子材料制造、光电材料熔融退火、晶体生长、金属光亮退火、磁性材料制备等。

真空管式炉
设备优势特点
1、温场均匀,控温精准
真空管式炉设备工作温度最高1600℃;
炉膛材料采用优质多晶莫来纤维真空吸附制成,温场均匀,节能效果显著(节能可达50%)。控温系统采用PID智能调节方式,可设置30段升降温程序,控温精度可达±1℃,确保实验数据准确可靠。
2、气密性卓越,真空度高
密封法兰采用双环密封技术,有效提高炉管两端的气密性。气路系统具有进出气微量可调功能,不锈钢金属法兰带阀门和相关接口,拆装方便,可抽真空充保护气体至微正压。
极限真空度:7x10-4Pa;(空炉、冷态、净化后)
工作真空度:7x10-3Pa.(空炉、净化后)
3、智能化控制,操作简便
智能化程序控温系统,采用移相触发、可控硅控制。可编程多段(30段、50段甚至51段)升温和降温曲线,一键完成,无需工人值守。可选配液晶触摸屏智能程序温控,操作更便捷,后端配有USB接口可实时拷贝数据,支持局域网无线连接。预留485转换接口,可与计算机互联,实现远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能。

BR-16MT 真空管式炉设备
应用领域
●高温热处理:真空管式炉通过提供均匀的高温环境,改善金属材料的力学性能和化学性能,用于钢材的淬火、回火、退火等过程。粉末冶金工艺中,它用于将金属粉末固化成形,制备金属合金及陶瓷材料,提高材料的性能与纯度。
●陶瓷烧结:真空管式炉促进陶瓷材料颗粒间的紧密结合,提升材料的密度、硬度及耐磨损能力,用于精密陶瓷部件的生产。在电子材料制造中,它用于半导体材料和电子陶瓷的加工,如硅片的制备和电子器件的烧结。
●光电材料熔融退火:真空管式炉在半导体和光电子行业中用于PECVD和CVD涂层过程,生产薄膜涂层,例如硅薄膜、金属薄膜等。在晶体生长方面,它提供了适宜的环境以生长单晶或多晶材料,如蓝宝石晶体的生长过程。
●金属光亮退火:真空管式炉用于提高金属表面的光洁度和防腐能力,常用于不锈钢等金属材料的处理。在磁性材料制备方面,它主要用于磁性材料的加热处理,控制其磁性能,如铁氧体等磁性物质的制备。
技术参数
产品名称 | 炉管直径*加热区长度(mm) | 单位 |
|---|---|---|
BR-16MT高真空管式炉 | 40×300mm | 1台 |
真空机组 | 机械泵+分子泵 | 1套 |
型号 | 真空管式炉(支持定制) |
|---|---|
炉膛尺寸 | 40×300mm(炉管直径*加热区长度) |
加热元件 | 硅钼棒 |
工作温度范围 | 700℃~1500℃ |
最高温度 | 1600℃ |
工作电压及功率 | 50/HZ 单相,4kW |
控温精度 | ± 1℃ |
温度均匀性 | ± 5°C |
加热速率 | 0-20℃/min,根据工艺需求速率可调。 1000℃以下,推荐升温速率10℃/min; 1000-1500℃,推荐升温速率5℃/min; 1500℃以上,推荐升温速率3℃/min。 |
热电偶 | B型 |
气体通入系统 | 不锈钢法兰+浮子流量计(需选配) |
真空系统 | █ 极限真空度7x10-4Pa; 工作真空度 7x10-3Pa. █ 真空机组:VRD-8机械真空泵+JTFB-300Z分子泵。 |

156-6410-8280











